Altechna, UAB (Lithuania)
アルテクナ社 (リトアニア)
レンズ、ミラー、偏光素子、レーザ結晶などのレーザ加工関連とマシンビジョン関連の光学機器メーカー
ISO9001認証
ピコ秒・フェムト秒、マルチkW(CW)に対応した製品や軸対象偏光変換素子(ラジアル/アジマス)のような特殊光学素子を得意とし、UVからIRまでの各種製光学機器を幅広く取り揃えております。
詳細は輸入代理店の太平貿易へお問い合わせください。
(光学機器部門)
レーザーオプティクス / ポラライザ(偏光子) / レーザー結晶 Altechna
用途に合わせた誘電体多層膜コーティング技術
Altechna社では、用途に合わせて多彩なコーティングを取り揃えております。特に高出力レーザー向けのコーティングを得意としております。
イオンビームスパッタリング(IBS)
低散乱/低吸収
VIS、IR領域で最高のLIDT(損傷しきい値)
低散乱/低吸収
VIS、IR領域で最高のLIDT(損傷しきい値)
イオンアシスト蒸着
IADまたはPIADの選択が可能
温度や湿度への影響がほとんどない
IADまたはPIADの選択が可能
温度や湿度への影響がほとんどない
マグネトロンスパッタリング
大量生産に最適なソリューション
IBSコーティングよりも低価格
コーティング特性がIBSとほぼ同等
VIS、IR領域でLIDT(損傷しきい値)が高い
大量生産に最適なソリューション
IBSコーティングよりも低価格
コーティング特性がIBSとほぼ同等
VIS、IR領域でLIDT(損傷しきい値)が高い
電子ビーム蒸着
MUVからIRまでの幅広いスペクトルレンジ
優れた蒸着率
コスト・パフォーマンス
MUVからIRまでの幅広いスペクトルレンジ
優れた蒸着率
コスト・パフォーマンス
マグネトロン スパッタリング | イオンビーム スパッタリング | 電子ビーム蒸発 | イオンアシスト 蒸着 | |
スペクトル範囲 | VIS-NIR | MUV-MID IR | DUV-MID IR | MUV-MID IR |
価格* | 〇 | △ | ◎ | ◎ |
容量1 "** | 518 | 53 | 90 | 90 |
バルク密度 | バルクに近い | バルクに近い | 多孔質 | 高密度 |
環境耐性 | ◎ | ◎ | △ | 〇 |
最大反射率 | > 99.9% | > 99.99% | > 99.5% | > 99.8% |
最小反射率 | <0.1% | <0.1% | <0.25% | <0.2% |
消光比 | 1 : 1000 | 1 : 1000 | 1 : 200 | 1 : 200 |
オプトメカニクス・エンジニアリング
ご要望に応じたオプトメカニカルシステムの設計
ポインティングスタビリティ(可動レンズ) : < 0.1mrad
レンズ可動速度:~0.3 m/s
オプトメカニカルの設計にはSolidWorksを使用
ポインティングスタビリティ(可動レンズ) : < 0.1mrad
レンズ可動速度:~0.3 m/s
オプトメカニカルの設計にはSolidWorksを使用
アッセンブリ
ご要望に応じた製品の組み立て(光学系+メカ系)
UVおよび熱接着剤硬化オーブン
クリーン環境 : ラミナー
UVおよび熱接着剤硬化オーブン
クリーン環境 : ラミナー
光学設計
用途に合わせた光学系の開発
高いLIDTによる設計アプローチ
ZEMAXを用いた設計
高いLIDTによる設計アプローチ
ZEMAXを用いた設計
品質
ヴィリニュス大学や協力会社との提携により、様々な検査方法を導入
ISO 21254-1-2, -3, -4規格に準拠したLIDT測定
ISO 11551規格に準拠した光吸収試験
ISO 13696規格に準拠した散乱測定
透過率およびコントラスト AOI=0° 4900~20000 nm
ISO 21254-1-2, -3, -4規格に準拠したLIDT測定
ISO 11551規格に準拠した光吸収試験
ISO 13696規格に準拠した散乱測定
透過率およびコントラスト AOI=0° 4900~20000 nm
製品一覧 Altechna
レーザーオプティクス
レーザー結晶 / 非線形結晶 / Q-SWITCH結晶
ダウンロード
2005_総合カタログ_Altechna_jp (4623KB) |
2005_アイソレータ_Altechna_jp (151KB) |
2005_アッテネータ_Altechna_jp (356KB) |
2005_オプティクス_Altechna_jp (1619KB) |
2005_ポラライザ_Altechna_jp (857KB) |
2005_レーザ_Altechna_jp (371KB) |
2005_レーザシャッタ_Altechna_jp (140KB) |
2005_レーザ結晶_Altechna_jp (606KB) |